在氧氮氢分析仪（如LECO、Horiba、Elementar等品牌）中，普通石墨坩埚的使用需谨慎，需根据具体仪器型号、分析元素和样品类型进行评估。

普通石墨坩埚在氧氮氢分析仪中可临时使用，但需严格评估空白干扰和样品兼容性。对于高精度或痕量分析，建议优先选择仪器配套的高纯或专用坩埚，以确保数据准确性和仪器寿命。

用场景（谨慎使用）

• 非痕量分析：如钢铁、合金中较高含量的氧氮分析（ppm级而非ppb级）。

• 短时间测试：避免长时间高温加热导致坩埚损耗。

• 非腐蚀性样品：避免含氟、强氧化剂等腐蚀石墨的样品。

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 使用普通石墨坩埚的优化建议

• 预处理：

  • 高温灼烧坩埚（如通氩气下加热至2000℃）以降低空白值。

  • 使用前用无水乙醇或丙酮清洗，避免污染。

• 校准补偿：

  • 增加空白试验，从结果中扣除坩埚本底值。

• 参数调整：

  • 降低加热功率或缩短分析时间，减少石墨损耗。