制备工艺关键 (1) 原料处理 超细粉碎:气流磨或球磨将石墨粉碎至微米级,比表面积控制在5–20 m²/g。 纯化:酸洗(HF+HNO₃)去除金属杂质至<100 ppm。 (2) 分散稳定技术 水性体系: 分散剂:聚丙烯酸钠(PAA)、木质素磺酸盐 pH调节至8–10(Zeta电位>30 mV保障静电稳定) 油性体系: 溶剂:矿物油、二甲苯 分散剂:司盘80、聚乙烯吡咯烷酮(PVP) (3) 后处理 均质化:高压均质机(50–100 MPa)处理3–5次破除团聚。 消泡:真空脱泡或添加有机硅消泡剂。 应用领域与配方示例 应用场景 典型配方 功能添加剂 高温润滑剂 石墨20%+硅油80% MoS₂(协同润滑) 导电涂料 石墨15%+丙烯酸树脂+二甲苯 碳纳米管(提升导电网络) 光伏硅片脱模剂 石墨10%+水+聚乙烯醇(PVA) 纳米SiO₂(增强成膜性) 电池集流体涂层 石墨8%+PVDF+NMP 导电炭黑(降低接触电阻)
超细粉碎:气流磨或球磨将石墨粉碎至微米级,比表面积控制在5–20 m²/g。
纯化:酸洗(HF+HNO₃)去除金属杂质至<100 ppm。
水性体系:
分散剂:聚丙烯酸钠(PAA)、木质素磺酸盐
pH调节至8–10(Zeta电位>30 mV保障静电稳定)
油性体系:
溶剂:矿物油、二甲苯
分散剂:司盘80、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)
均质化:高压均质机(50–100 MPa)处理3–5次破除团聚。
消泡:真空脱泡或添加有机硅消泡剂。